9微米氧化鋁拋光粉
9微米氧化鋁拋光粉採用優質工業氧化鋁粉為原料，經特殊生產工藝加工而成。所生產的氧化鋁拋光粉的晶體形狀為六方扁平狀，呈板狀，故稱為片狀氧化鋁或平板狀氧化鋁。
板狀氧化鋁的氧化鋁純度在99%以上，具有耐熱、耐酸鹼腐蝕、硬度高的特點。與傳統磨料球形顆粒不同，扁平氧化鋁底面平整，磨削時顆粒貼合工件表面，產生滑動磨削效果，避免顆粒尖角劃傷工件表面工件。另一方面，板狀氧化鋁在研磨時，研磨壓力均勻分佈在顆粒表面，顆粒不易破碎，耐磨性提高，從而提高研磨效率和表面光潔度。
對於半導體矽片等半導體材料，應用板狀氧化鋁可以減少研磨時間，大大提高研磨效率，減少研磨機的損耗，節省人工和研磨成本，提高研磨合格率。質量接近國外知名品牌。
顯像管玻殼研磨工作效率提高3-5倍；
產品合格率提高10-15%，半導體晶圓合格率達到99%以上；
磨耗比普通氧化鋁拋光粉少40-40%；
9微米氧化鋁拋光粉化學成分
| 化工 | 保證價值 | 典型值 |
| 氧化鋁 | ≥99.0% | 99.36% |
| 二氧化矽 | ＜0.2% | 0.017% |
| Fe2O3 | ＜0.1% | 0.03% |
| Na2O | ＜0.6% | 0.35% |
電鍍氧化鋁研磨粉物理性能
| 材料 | α-Al2O3 |
| 顏色 | 白色的 |
| 比重 | ≥3.9g/cm3 |
| 莫氏硬度 | 9.0 |
電鍍氧化鋁研磨粉 可用尺寸
| 類型 | D3(嗯) | D50（um） | D94（嗯） |
| HXTA45 | 50.5-56.2 | 33-38.5 | 20.7-24.5 |
| HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
| HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
| HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
| HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
| HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
9微米氧化鋁拋光粉應用
1）電子工業：半導體單晶矽片、石英晶體、化合物半導體（晶鎵、磷化納米）的研磨拋光。
2）玻璃行業：水晶、石英玻璃、顯像管玻璃殼屏、光學玻璃、液晶顯示器（LCD）玻璃基板、石英晶體的研磨加工。
3）塗料行業：等離子噴塗的特殊塗料和填料。
4）金屬及陶瓷加工行業：精密陶瓷材料、燒結陶瓷原料、高檔高溫塗料等。
9微米氧化鋁拋光粉包裝：
20公斤/箱，1噸/托盤
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